平面拋光機是在物體表面上的拋光的一種工具，拋光分為粗拋，半精拋，精拋。下面，我們一起來看看平面拋光機的拋光原理吧。

　　平面拋光的作用是使工件外面粗拙度低落，以獲得光明、平坦外面。平面拋光機其機理應該分別是三種結合，因為在平面拋光機在工作過程時會化學作用、機械磨削、表面流動的理論。
 

　　1、化學作用理論

　　在拋光過程時，工件表面，拋光劑，拋光模和水的作用下，發(fā)復雜的化學過程。如，光學玻璃表面發(fā)生水解過程，或者硬脆性材料發(fā)生化學腐蝕過程。

　　2、機械磨削理論

　　拋光是繼研磨之后的工作，其兩者本質相關不大。都是通過尖硬的磨料顆粒對工件表面進行細微切削作用的結果。但拋光用的磨料對于研磨的磨料顆粒更加細微的拋光劑，微小的切削可以在分子大小范圍內進行。拋光模與工件表面吻合相當，拋光時切向力較大，從而使工件表面凹凸的微裂結構被磨切掉，就形成了工件光滑的表面。

　　3、表面流量理論

　　工件表面由于高壓和相對運動，摩擦生熱致使表面產生塑性的流動，凸起部分會凹下部分填平，形成光滑的拋光表面。分別有兩種理論：

　　(1)是根據拋光表面用金鋼石劃成圖案，然后拋掉，而再用酸腐蝕后圖案劃痕再現(xiàn)。

　　(2)是由拋去厚度計算的拋去重量比實測的大得多，于是就認為拋光的質量填到表面凹凸層的谷部。由此說明流動作用的覆蓋。

　　綜上所述，平面拋光機的拋光過程是極其復雜的，至今也沒有完善統(tǒng)一的結論。以上據說的理論化學作用是必須的，而機械理論是基本的，表面流動理論也存在一定的可能性。